Bahan Sasaran Sputtering Tungsten

Bahan Sasaran Sputtering Tungsten

Nama Produk: Bahan Sasaran Sputtering Tungsten
Kemasan: Peti kayu, atau sesuai kebutuhan pelanggan
Penandaan: Penandaan laser tersedia setelah selesai
Kirim permintaan

Ikhtisar Produk

 

Bahan target sputtering tungstendibuat dari logam tungsten dengan kemurnian tinggi (atau paduan berbahan dasar tungsten) melalui metalurgi serbuk, pengepresan isostatik panas, sintering, dan proses perlakuan panas. Target ini direkayasa secara presisi-ke dalam bentuk tertentu (konfigurasi planar, lingkaran, persegi panjang, atau khusus) untuk menyimpan film tipis berbasis tungsten atau tungsten-ke substrat melalui sputtering magnetron vakum.

Dalam sputtering magnetron (proses PVD), atom logam dilepaskan dari target sputtering dan diendapkan ke bahan yang akan dilapisi (“substrat”) untuk membentuk film tipis. Proses ini mewakili metode pelapisan yang-efektif dan cepat, meskipun semua bahan harus memenuhi standar kualitas yang paling ketat.

 

Spesifikasi Teknis


 

Parameter

Nilai/Rentang Khas

Keterangan

Kemurnian Kimia

Lebih besar dari atau sama dengan 99,95% (tersedia hingga 99,999%)

Kemurnian tinggi memastikan sifat film listrik dan optik yang konsisten

Kepadatan

19,3 g·cm⁻³ (teoretis: 19,35 g·cm⁻³)

Kepadatan-yang mendekati teori meningkatkan pemanfaatan target

Titik lebur

3407 derajat (≈5900 derajat F)

Ketahanan-suhu tinggi yang luar biasa

Resistivitas Listrik

5,65 µΩ·cm (27 derajat )

Resistansi rendah memfasilitasi-sputtering daya tinggi

Konduktivitas Termal

~170 W·m⁻¹·K⁻¹ (curah tungsten)

Pembuangan panas yang efisien mengurangi kenaikan suhu permukaan

Kekerasan/Kekuatan

Vickers ≈3500 HV, compressive strength >1500 MPa

Kekerasan tinggi memastikan ketahanan aus dan toleransi benturan

Koefisien Ekspansi Termal

4,5 × 10⁻⁶ K⁻¹ (20-400 derajat )

Ekspansi rendah meminimalkan tekanan siklus termal

Tekanan Uap

Kurang dari atau sama dengan 10⁻⁸ Pa (2000 derajat )

Penguapan minimal mencegah penguapan target pada suhu tinggi

Bentuk/Dimensi

Target planar, melingkar, berputar; diameter 1-4 inci (≈25-100 mm), ketebalan 0,1-0,5 inci (≈2,5-12 mm), tersedia spesifikasi khusus

 

 

Proses Manufaktur


 

Persiapan Bahan Baku:Bubuk tungsten dengan kemurnian-tinggi (99,5%-99,999%) mengalami proses deoksidasi dan dehumidifikasi

Pembentukan:Pengepresan isostatik dingin (CIP) atau pengepresan isostatik panas (HIP) membentuk benda berwarna hijau; beberapa produk menggunakan pengepresan panas, pengerolan panas, atau penempaan untuk meningkatkan kepadatan

Sintering:Sintering-suhu tinggi pada 2500-3000 derajat dalam atmosfer vakum atau inert mencapai 99,5%-99,9% kepadatan teoretis

Perlakuan Panas:Annealing dan penuaan menghilangkan sisa stres dan mengoptimalkan struktur butiran

Pemesinan Presisi:Pembubutan, penggilingan, dan pemolesan yang presisi mencapai kekasaran permukaan Kurang dari atau sama dengan 0,2 µm untuk sputtering yang seragam

Pembersihan & Pengemasan Permukaan:Inspeksi kimia dan pembersihan ultrasonik di lingkungan gas inert, diikuti dengan pengemasan vakum untuk mencegah oksidasi

 

Sifat Kimia


 

Ketahanan Korosi / Oksidasi:Reaksi kimia minimal dalam lingkungan sputtering korosif menjaga integritas kinerja

Tekanan Uap Rendah:Tekanan uap yang sangat rendah pada suhu tinggi mencegah kontaminasi film dari penguapan target selama sputtering berkekuatan tinggi

Kelambanan Kimia:Stabil secara kimia di lingkungan vakum atau gas inert, cocok untuk berbagai atmosfer pengendapan (oksidasi, reduksi, nitridasi)

Sifat Mekanik

Kekerasan Tinggi & Ketahanan Aus:Kekerasan tungsten (≈3500 HV) menjaga kerataan permukaan di bawah serangan ion, sehingga memperpanjang masa pakai

Kekuatan & Kepadatan Tinggi:Struktur padat (Lebih besar dari atau sama dengan 99,5% kepadatan teoritis) memberikan kekuatan tekan yang sangat baik untuk aplikasi berkas ion berenergi-berdaya tinggi,-tinggi

Koefisien Ekspansi Termal Rendah:Tekanan termal minimal selama-perputaran suhu tinggi mengurangi risiko retak

 

Aplikasi

 

Industri/Lapangan

Aplikasi Khusus

Manufaktur Semikonduktor

Interkoneksi, lapisan penghalang, lapisan kontak (misalnya, lapisan penghalang W untuk node kurang dari atau sama dengan 7 nm)

Layar Panel Datar (TFT-LCD, OLED)

Elektroda sumber/saluran TFT, lapisan peningkatan optik

Fotovoltaik/Sel Surya

Elektroda belakang atau lapisan anti-pantulan optik

Pelapis Optik

Cermin-pantulan tinggi, filter,-jendela tahan radiasi

Tabung Sinar X/Pencitraan Medis

Target sinar-X-berkekuatan tinggi memberikan foton berenergi-tinggi yang stabil

Dirgantara, Metalurgi Tanah Langka

Komponen-tahan korosi-suhu tinggi, lapisan perlindungan termal

Pelapis/Alat Keras

Pelapis keras berbahan dasar W-untuk meningkatkan ketahanan terhadap keausan alat

 

Keunggulan Produk


 

Kemurnian Luar Biasa:Sifat film listrik dan optik terkontrol dengan tingkat kerusakan yang berkurang

Kepadatan Tinggi & Tingkat Sputtering:Targetkan tingkat pemanfaatan hingga 80%, sehingga mengurangi biaya material

Tahan Suhu Tinggi & Tekanan Uap Rendah:Mempertahankan stabilitas struktural dalam-sputtering berdaya tinggi di atas 2000 derajat

Kelambanan Kimia & Ketahanan Korosi:Cocok untuk berbagai atmosfer (oksidasi, nitridasi, silisidasi), memastikan kemurnian film

Kekerasan Tinggi & Umur Panjang:Menahan keausan akibat bombardir ion, menjaga kehalusan permukaan, mengurangi frekuensi penggantian

Kemampuan Kustomisasi:Berbagai konfigurasi (planar, melingkar, putar, khusus) untuk memenuhi beragam kebutuhan peralatan

 

Pedoman Seleksi & Penggunaan


 

Kekuatan Proses: High-power applications (>5 kW) merekomendasikan Lebih besar dari atau sama dengan 99,999% target kemurnian ultra-tinggi dengan kepadatan Lebih besar dari atau sama dengan 99,9% teoritis untuk meminimalkan kehilangan penguapan

Ukuran:Pilih diameter dan ketebalan berdasarkan posisi target sistem sputtering; target putar meningkatkan pemanfaatan permukaan untuk pengendapan seragam-area luas

Suasana:Untuk lingkungan pengoksidasi atau fluorinasi yang kuat, target yang dipoles khusus dengan kekasaran rendah (Kurang dari atau sama dengan 0,1 µm) mencegah oksidasi permukaan

Kemasan:Target-kemurnian tinggi harus dikemas secara vakum-dalam gas inert (Ar/N₂) untuk mencegah oksidasi atau kelembapan selama pengangkutan

 

FAQ:

 

Apakah Anda menyediakan sampel?

A: Ya, kami menawarkan sampel gratis dengan pengiriman diatur oleh pelanggan. Kami merekomendasikan pengujian sampel atau melakukan pesanan percobaan sebelum pembelian dalam jumlah besar.

T: Seberapa kompetitif harga Anda?

J: Harga kami mencerminkan nilai luar biasa ketika mempertimbangkan kualitas premium dan layanan komprehensif yang kami berikan.

T: Berapa waktu penyelesaian penawaran Anda?

A: Biasanya 24 jam setelah penerimaan pertanyaan. Permintaan mendesak menerima penanganan prioritas setelah pemberitahuan.

Q: Bagaimana cara meminta produk khusus?

A: Silakan bagikan gambar, gambar, atau sampel Anda. Kami akan mengkonfirmasi spesifikasi dan segera memulai produksi.

 

Kontak:

 

Tentang STRX Titanium – Mengapa Memilih Kami?

Bahan Premium:Kami memilih bahan baku premium untuk memastikan kontrol kualitas dari sumbernya.

Pemeriksaan Kualitas yang Ketat:Standar pemeriksaan kualitas yang ketat diterapkan untuk memastikan kepatuhan 100% terhadap persyaratan pelanggan.

Solusi yang Disesuaikan:Kami memahami bahwa setiap industri memiliki kebutuhan yang unik. Tim kami bekerja sama dengan klien untuk menyesuaikan produk berdasarkan kebutuhan spesifik. Kami menyesuaikan semua produk titanium (warna/ukuran, dll.) sesuai dengan gambar atau ide pelanggan.

Pengiriman Cepat:Manajemen produksi tingkat lanjut memastikan pengiriman yang efisien dan cepat dari produksi hingga pengiriman.

Dukungan Ahli:Dapatkan wawasan dari tim ahli kami yang berdedikasi, yang memberikan saran profesional dan bantuan praktis. STRX Titanium membantu Anda mengidentifikasi dan memilih solusi terbaik yang disesuaikan dengan kebutuhan bisnis Anda, memastikan hasil dan kepuasan optimal.

STRX Titanium telah mendapatkan pujian yang konsisten dari klien atas-produk berkualitas tinggi dan harga yang kompetitif. Dengan kontrol kualitas yang ketat dan dukungan teknis profesional, kami berharap dapat bekerja sama dengan Anda!

Singkatnya, STRX Titanium adalah produsen dan pemasok produk titanium terkemuka di Cina. Kami memelihara kemitraan teknis yang kuat dengan produsen peralatan besar domestik dan internasional dan menjunjung standar kualitas yang ketat untuk memenuhi permintaan klien.

Jika Anda sedang mencari supplier produk titanium terpercaya, segera hubungi kami untuk mengetahui lebih lanjut mengenai produk dan layanan kami.

E-mail:info@strx-titanium.com

Tag populer: bahan target sputtering tungsten, produsen, pemasok, pabrik bahan target sputtering tungsten Cina